基本信息
| 标准名称： | 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 -电感耦合等离子体原子发射光谱法 |
| 发布部门： | 中华人民共和国工业和信息化部 |
| 发布日期： | 2012-12-28 |
| 实施日期： | 2013-06-01 |
| 首发日期： | |
| 作废日期： | |
| 出版社： | 建材工业出版社 |
| 出版日期： | 2013-06-01 |
适用范围
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。
本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。
前言
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所属分类： 能源 核技术 能源 核技术综合 技术管理 能源和热传导工程 能源和热传导工程综合